光刻专利转让_购买光刻专利

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一种光刻机物镜结构
专利号:202310719268X
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一种波前光刻方法与系统
专利号:CN202210484627.3
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一种多参量调谐的全息打印光刻系统
专利号:CN202210481399.4
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一种复合全息光刻系统和方法
专利号:CN202411217485.X
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一种用于悬臂梁型SOI-MEMS器件的选择性电化学刻蚀方法
专利号:2020110397412
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一种三硫代碳酸酯及其在制备窄分布聚对乙酰氧基苯乙烯中的应用(改性材料 光刻胶 聚氨酯材料 高分子材料 新材料 聚乙烯材料 聚酰胺 PAS 聚磺酰胺也应用于染料领域,如塑料、纤维、薄膜、润肤剂、护肤霜或洗剂、抛光剂等)
专利号:2024106929975
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一种共价交联含硫聚合物及其制备方法与应用(改性材料 光刻胶 聚氨酯材料 高分子材料 热塑性材料 新材料 聚乙烯材料 聚酰胺 PAS 聚磺酰胺也应用于染料领域,如塑料、纤维、薄膜、润肤剂、护肤霜或洗剂、抛光剂等)
专利号:202310999885X
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一种铝电解电容器加工用激光刻蚀打标装置
专利号:2025111319930
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一种微振平台减震控制方法及系统(芯片光刻、晶圆检测、微观封装工作台、光学成像、激光干涉、精密光路调试平台、力学计量、尺寸精密测量、力学试验仪器、超精密机床、精密打磨、微型零件加工平台)
专利号:2025111290468
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一种复合全息光刻系统和方法
专利号:CN202411217485.X
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一种波前光刻方法与系统
专利号:CN202210484627.3
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一种多参量调谐的全息打印光刻系统
专利号:CN202210481399.4
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针压适配方法、装置、针测设备及可读存储介质
专利号:2020108805663
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一种基于SOI晶片的可调光栅滤波器及制备方法
专利号:201811433756X
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一种三角形手性结构及其制备方法
专利号:2019103666888
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一种基于三张光刻版解决电极短路问题的压电MEMS换能器制备方法
专利号:2024104408615
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一种非晶硅电池激光刻膜机
专利号:2018104669944
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一种InP基纳米周期结构的制备方法
专利号:202110342868X
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无需助粘剂的瞬态胶带转印方法
专利号:2019102249007
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一种半导体晶圆生产用光刻胶收集杯结构(半导体 晶圆 晶体 电路板 pcb板)
专利号:2022102277032
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双轨大幅面高速触摸屏激光刻蚀设备
专利号:2021111853474
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一种液晶显示器光刻胶成膜的装置及方法
专利号:CN201710470757.0
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一种低成本精密芯片模具光刻掩膜的制备方法(高校 特色工艺半导体 IC封装与先进封装 ‌印制电路板(PCB)与精细电子元器件)
专利号:2016102831140
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一种基于皮秒激光构建异性超疏水聚四氟乙烯的方法
专利号:202111388603X
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一种光刻机的晶片传送装置
专利号:2025110506395
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一种磁致伸缩驱动机构
专利号:2020114707259
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一种磁致伸缩微位移平台
专利号:2020114520967
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一种废料自清蚀刻模具结构及其使用方法
专利号:2023103285581
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一种基于飞秒激光刻写波导的光纤线上马赫-曾德干涉仪
专利号:2018105164824
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一种可调式芯片卡具的使用方法
专利号:2018110396249
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一种指针式芯片卡具的使用方法
专利号:201811040016X
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一种芯片卡具的定位固定装置
专利号:2018110400121
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一种基于润湿性调控的微纳自组装结构制备方法
专利号:2017100272724
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一种基于飞秒激光刻写螺旋型波导的光纤振动传感器
专利号:2020112221246
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海藻酸钠基可重复擦写和溶解再生的无墨光刻打印纸张(高校24年授权,可降解环保纸配方、绿色印刷材料、造纸工艺、光敏纸)
专利号:2022107624602
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一种基于飞秒激光刻写FBG的锥形光纤流速传感器
专利号:2020107128444
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一种旋转型芯片卡具的使用方法
专利号:2018110396041
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一种萘酰亚胺-TB化合物及其合成方法和应用(高校 医疗健康 生物材料 光动力治疗 半导体光刻)
专利号:2023108512384
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激光扫描刻蚀制造二维码方法及其装置
专利号:201910760313X
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一种基于多尺度计算损伤前驱体对光学材料激光损伤阈值的评估方法(光学材料检测、寿命评估、激光探伤,半导体光刻、激光加工,光刻材料,精密光学质控、航空航天军工,
专利号:2022101616265
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关于「光刻」专利转让

「光刻」是当前技术创新与产业升级中的热门方向。购买该领域的专利, 能够帮助企业快速获取核心技术成果、缩短研发周期,并在高新技术企业认定、科技项目申报、招投标加分等场景中占据优势。

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「光刻」专利转让常见问题

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「光刻」专利能用于高企认定吗?

可以。「光刻」领域的发明专利可作为高企认定核心自主知识产权(Ⅰ类),实用新型可作为辅助知识产权(Ⅱ类)。本站支持筛选「已报高企」专利,购买后即可用于申报。

「光刻」专利转让流程是怎样的?

选中心仪专利后,与本站签订转让协议,平台协助办理国家知识产权局著录项目变更(过户),全程约 1-3 个月,转让不成功全额退款,专业顾问一对一跟进。

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