一种暴露(010)晶面BiOCl/类石墨相氮化碳复合光催化剂及其制备方法和应用
发明专利本发明提供一种暴露(010)晶面BiOCl/类石墨相氮化碳复合光催化剂及其制备方法和应用,本发明采用光照复合法,光照BiOCl在(010)晶面产生电子,而在(100)和(001)晶面产生空穴,空穴会与具有负电荷的层状结构g‑C3N4静电吸引,在四方相、空间点群为P4/nmm(129)BiOCl的(100)和(001)晶面负载层状g‑C3N4,暴露出BiOCl(010)晶面,形成暴露(010)晶面BiOCl/g‑C3N4复合光催化剂。形成的暴露(010)晶面BiOCl/g‑C3N4复合光催化剂具有较高的光催化反应活性。
《一种暴露(010)晶面BiOCl/类石墨相氮化碳复合光催化剂及其制备方法和应用》是一发明专利,专利号为 2018114966612,当前法律状态为已下证,由陕西科技大学提出申请,发明人为谈国强;张丹;王敏;李斌;任慧君;夏傲,公开(公告)日期为2020-10-09,国际专利分类号(IPC)为 B01J27/24(2006.01)I;C02F1/30(2006.01)I;C02F101/38(2006.01)N,代理机构为西安通大专利代理有限责任公司61200,高新资质:未报高企,所属技术领域包括:功能材料。该专利已下发证书,权利稳定,适合直接办理转让过户,是企业申报高企、项目招投标、质押融资的优质标的。赋翼网提供从选品、尽调、合同签订到官方著录项目变更(过户)的一站式专利转让服务,专业顾问全程协助,确保交易合规、安全、高效。专利摘要:本发明提供一种暴露(010)晶面BiOCl/类石墨相氮化碳复合光催化剂及其制备方法和应用,本发明采用光照复合法,光照BiOCl在(010)晶面产生电子,而在(100)和(001)晶面产生空穴,空穴会与具有负电荷的层状结构g‑C3N4静电吸引,在四方相、空间点群为P4/nmm(129)BiOCl的(100)和(001)晶面负载层状g‑C3N4,暴露出BiOCl(010)晶面,形成暴露(010)晶面BiOCl/g‑C3N4复合光催化剂。形成的暴露(010)晶面BiOCl/g‑C3N4复合光催化剂具有较高的光催化反应活性。
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